中微公司(688012):业绩保持高增态势,拓宽产品矩阵未来可期-2023年报点评

事项:

   2024年3月18日,公司发布2023年年度报告:

   1)2023年:营业收入62.64亿元,同比增长32.15％;归母净利润17.86亿元,同比增长52.67％;扣非后归母净利润11.91亿元,同比增长29.58％;

   2)2023Q4:营业收入22.22亿元,同比增长30.97％,环比增长46.71％;归母净利润6.26亿元,同比增长66.14％,环比增长299.11％;扣非后归母净利润4.58亿元,同比增长66.13％,环比增长113.18％。

   评论:

   刻蚀设备业务持续高增长,半导体设备龙头盈利能力保持高水平。公司刻蚀设备在国内主要客户产线上市占率大幅提升,带动业绩高速增长。公司2023年营收同比增长32.15％至62.64亿元,其中刻蚀设备收入约47.03亿元,同比+49.43％;利润方面,公司2023年实现归母净利率28.51％,同比+3.83pct,利润部分受投资收益影响。订单维度,公司2023年新增订单金额约为83.6亿元,同比增长32.3％,其中刻蚀设备订单约同比增长60.1％至69.5亿元。晶圆厂扩产叠加国产替代加速,公司积极拓宽产品布局,业绩有望保持高增态势。

   国际贸易形势变化加速设备国产化,公司刻蚀设备将持续受益。外部贸易环境变化推动半导体设备国产化进程加速,以中微公司为代表的国内半导体设备厂商将持续受益。公司ICP和CCP设备正快速突破,在逻辑产线中,公司开发的12英寸高端刻蚀设备已经在从65nm到5nm及更先进技术结点大量量产;在3DNAND中,公司的等离子体刻蚀设备已应用于128层及以上的量产,新开发的用于超高深宽比掩膜刻蚀的ICP设备在生产线上验证顺利,用于超高深宽比介质刻蚀的CCP设备也进入到良率和可靠性验证阶段。展望未来,在高端存储和逻辑产线的国产化过程中,公司设备有望发挥更为重要的作用。

   新产品开发成效显著,平台化布局打开公司远期成长空间。公司在新品研发方面进展顺利,近两年新开发的LPCVD和ALD设备,目前已有四款设备进入市场,其中三款设备已得到重复性订单,公司计划在2024年推出超过10款新型薄膜沉积设备,在薄膜沉积领域快速扩大产品覆盖度;新开发的硅和锗硅外延EPI设备、晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多个新产品,将于2024年投入市场验证。此外公司通过投资布局了第四大设备市场--光学检测设备。随着新产品的陆续推出,公司所处赛道天花板正快速提升,未来成长空间广阔。

   投资建议:晶圆厂扩产叠加替代加速,公司作为国内半导体设备龙头厂商有望显著受益。考虑到公司刻蚀设备业务进展超预期,我们维持公司2024年收入预测83.95亿元,将公司2025年收入预测由108.42亿元上调至118.23亿元,新增2026年收入预测150.43亿元,结合公司历史估值区间及行业平均估值水平,给予公司2024年15倍PS,对应目标价为203.3元,维持"强推"评级。

   风险提示:国际贸易形势变化;下游扩产不及预期;上游零部件供应短缺;行业竞争加剧。