中微公司(688012):刻蚀设备营收显著提升,研发项目持续推进-公司事件点评报告

事件

   中微公司发布2024年第一季度报告:2024年一季度公司实现营业收入16.05亿元,同比增长31.23％;实现归母净利润2.49亿元,同比下降9.53％;实现扣非归母净利润2.63亿元,同比增长15.40％。

   投资要点

   Q1营收同比增长,刻蚀设备营收显著提升

   2024年一季度公司营业收入为16.05亿元,同比增长31.23％。公司的刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可,针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升,一季度刻蚀设备实现收入13.35亿元,同比增长约64.05％,占营业收入的比重也提升至83.20％。除刻蚀设备外,公司MOCVD设备已经在国内蓝绿光LED生产线上占据领先的市占率,受终端市场波动影响,一季度MOCVD设备收入约0.38亿元,同比下降约77.28％;备品备件及服务收入约2.32亿元,由于半导体下游客户的产能利用率波动影响,同比下降约4.38％。一季度公司归母净利润为2.49亿元,同比下降约9.53％,主要原因是公司持有的股权投资公允价值变动和政府补助收益变动导致的非经常性损益同比减少约0.61亿元。

   刻蚀设备验证顺利,市占率大幅提升

   公司主营产品等离子体刻蚀设备是除光刻机以外最关键的微观加工设备,是制程步骤最多、工艺过程开发难度最高的设备。受益于公司完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品升级快速迭代、刻蚀应用覆盖丰富等优势,2023年公司CCP和ICP刻蚀设备均在国内主要客户芯片生产线上市占率大幅提升。公司根据技术发展及客户需求,大力投入先进芯片制造技术中关键刻蚀设备的研发和验证,公司开发的可调节电极间距的CCP刻蚀机PrimoSD-RIE已进入国内领先的逻辑芯片制造客户开展现场验证,针对DRAM和3DNAND器件制造中最关键的高深宽比刻蚀工艺自主开发的具有大功率400kHz偏压射频的PrimoUD-RIE已经在生产线验证出具有刻蚀≥60:1深宽比结构的能力。晶圆边缘Bevel刻蚀设备完成开发,即将进入客户验证,公司的TSV硅通孔刻蚀设备也越来越多地应用在先进封装和MEMS器件生产。

   薄膜沉积设备获得重复性订单,研发项目持续推进

   公司目前已有多款薄膜沉积设备产品进入市场。2023年公司新开发出4款薄膜沉积产品。公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估,已通过客户现场验证,满足金属互联钨制程各项性能指标,并获得客户重复量产订单。公司钨系列薄膜沉积产品可覆盖存储器件所有钨应用,并已完成多家逻辑和存储客户对CVD/HAR/ALDW钨设备的验证,取得了客户订单。公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备也在稳步推进,实验室测试结果显示,设备的薄膜均一性和产能均表现出世界领先水平。在现有的金属CVD和ALD设备研发基础上,公司已规划多款CVD和ALD设备,增加薄膜设备的覆盖率,进一步拓展市场。

   盈利预测

   预测公司2024-2026年收入分别为83.29、108.31、138.73亿元,EPS分别为3.23、4.08、5.32元,当前股价对应PE分别为40.2、31.8、24.4倍,一季度公司刻蚀设备营收同比增长显著,验证顺利,市占率大幅提升,薄膜沉积设备获得重复性订单,随着对半导体设备的持续需求,公司业绩有望持续增长,维持"买入"投资评级。

   风险提示

   宏观经济的风险,产品研发不及预期的风险,行业竞争加剧的风险,下游需求不及预期的风险。